ASML 即将发货首台第二代 High NA EUV 光刻机 EXE:5200

2 月 1 日消息，ASML 总裁兼首席执行官 Christophe Fouquet 在上月末的公司 2024 年第四季度财报电话会议上表示，该企业的首台第二代 0.55 (High) NA EUV 光刻机 TWINSCAN EXE:5200 即将以“早期工具”的身份发货，用于技术成熟度验证。

EXE:5200 是现有初代 High NA EUV 光刻机 EXE:5000 的改进款，根据 Christophe Fouquet 的说法，该型号“更适合大批量生产”。而 EXE:5000 作为初期版本主要用于 High NA EUV 光刻技术的开发。

从 ASML 光刻系统的迭代规律来看，EXE:5200 预计将拥有更高的晶圆吞吐量（注：EXE:5000 为每小时 185 片以上），同时支持更为精细的后 2nm 逻辑半导体工艺。

Christophe Fouquet 还提到，其 0.33 (Low) NA EUV 光刻机的最新型号 NXE:3800E 已在工厂实现每小时 220 片的设计晶圆吞吐量，较初期的 185 片进一步提升，比前一代的 NXE:3600D 已高出 37.5%，充分发挥了结构改进带来的优势。

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