俄罗斯成功研发首台350纳米光刻机并计划批量生产

3月26日的消息显示，莫斯科市长谢尔盖·索比亚宁对外宣布，位于莫斯科的泽列诺格勒纳米技术中心已经成功研发出俄罗斯首台350纳米光刻机，并计划进入批量生产阶段。

早在2023年，俄罗斯便透露其计划在2024年实现350纳米光刻机的生产，到2026年完成130纳米光刻机的研发。这一任务涉及莫斯科、泽列诺格勒、圣彼得堡及新西伯利亚等多个地区的工厂协同合作。

2024年5月，俄罗斯确认已组装完成首台国产光刻机并正在进行测试，该设备能够生产350纳米芯片。此次，谢尔盖·索比亚宁首次公开了这台国产350纳米光刻机的实际照片。

他指出，目前全球仅有不到10个国家具备制造此类半导体关键设备的能力，而俄罗斯已成为其中之一。这是该国推动微电子产业本土化、实现技术自主的重要里程碑。

据介绍，俄罗斯的这款光刻机与国外同类设备存在显著差异。它并未采用传统的汞灯光源，而是创新性地使用了固态激光器，具备高功率、高效能、长寿命以及光谱集中的特点。

此外，这款光刻机的工作区域面积达到了22×22毫米，最大可支持直径200毫米的晶圆制造。值得注意的是，我国中科院成功研发的深紫外（DUV）激光光源技术同样基于固态设计，未来有望推进至3纳米节点，但目前仍面临功率和频率偏低的问题。

尽管350纳米工艺相较于当前主流技术水平显得较为落后，但它仍能满足汽车、能源、通信等领域部分基础需求。同时，俄罗斯正持续推进130纳米光刻机的研发工作，预计明年可以完成。

另外，俄罗斯已掌握65纳米工艺制造技术，但目前仍依赖进口设备。为此，俄罗斯也在为实现65纳米工艺的全面国产化做积极准备。