中微公司
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中微公司发布其首款晶圆边缘刻蚀设备 Primo Halona
设备腔体均搭载 Quadra-arm 机械臂，精准灵活，腔体内部采用抗腐蚀材料设计，可抵抗卤素气体腐蚀，为设备的稳定性与耐久性提供保证。
中微公司在等离子体刻蚀技术领域实现重大突破
近日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”）宣布通过不断提升反应台之间气体控制的精度， ICP 双反应台刻蚀机 Primo Twin-Star® 又取得新的突破，反应台之间的刻蚀精度已达到 0.2A（亚埃级）。