光刻机
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英特尔首批两台 ASML 高数值孔径光刻机已投产，可靠性翻倍
英特尔宣布已开始使用ASML的两台先进光刻机进行生产，这些新型设备在可靠性上远超旧款，仅需一次曝光即可完成旧款机器三次曝光的工作。英特尔计划利用这些高NA光刻机开发18A制造技术，预计今年晚些时候投入大规模生产。#光刻机# #英特尔# #ASML#
支持后2nm工艺时代！ASML将发货最新EUV光刻机EXE:5200 英特尔是买家
支持后2nm工艺时代！ASML将发货最新EUV光刻机EXE:5200 英特尔是买家
因需求过高，ASML 取消非员工订购的 High-NA EUV 光刻机乐高模型
X（原推特）用户 jonmasters 发现，光刻机制造商阿斯麦（ASML）正在取消非员工订购的限量版 Twinscan EXE:5000 乐高模型订单。这款售价 230 美元（IT之家备注：当前约 1678 元人民币）的乐高套装是对价值 3.8 亿美元的 High-NA EUV（高数值孔径极紫外）光刻机的微缩复刻，旨在纪念用于制造下一代半导体的全球首台 High-NA EUV 机器的诞生。
